钙钛矿蒸镀设备

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磁控溅射生产线

产品特点

技术参数
设备型号	ZCJ-300（600、1200）
极限真空	8×10^-5Pa
腔室功能分类	进、出样室（1000Pa）
	过渡室（0.5Pa）
	缓冲室（压力及气氛匹配溅射室）
	溅射室（0.5Pa）
溅射靶类型	矩形平面靶、圆柱旋转靶

技术参数
样品幅宽	300、600、1200mm
常用靶材	ITO、NiO₂、Cu
靶基距	80~120mm
镀膜节拍	≥60s
连续运行时间	≥200h
片内膜厚均匀性	≤±3%
片间膜厚均匀性	≤±3%

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